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    반도체 포토레지스트 개발 추이

    카테고리 : 정보통신 개제일자 : 2003.01.17 관련기사 : [리딩 테크놀로지 2003](8)ArF 포토레지스트

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  • [리딩 테크놀로지 2003](8)ArF 포토레지스트

     반도체업계의 영원히 변하지 않는 화두는 미세화와 집적화다. 미세화는 회로선폭이 점차 작아지는 것을 뜻하며, 집적화는 제한된 면적에 여러 회로를 층층이 형성하는 것을 말한다. 속도는 빠르게, 저장 데이터량은 많게, 그러나 비용은 저렴하게 칩을 만들어야 하는 것이 반도체업계의 끝없는 숙제이기 때문이다.

     미세회로 형성을 위해서는 다양한 광학적, 물리적, 화학적, 기계적 기술들이 응용되는데 이 공정에서 가장 중요한 재료가 바로 감광제(photoresist:포토레지스트)....

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