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    삼성전자 반도체 초미세공정 및 대용량 제품현황

    카테고리 : 정보통신 지면 : 26면 개제일자 : 2007.06.04 관련기사 : 삼성전자, "51나노 플래시 비중 30%로 확대"

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  • 삼성전자, "51나노 플래시 비중 30%로 확대"

     삼성전자가 최첨단 51나노(㎚) 미세공정을 적용한 낸드플래시의 생산 비중을 현재 2%에서 연말까지 30% 이상으로 확대한다. 이와 함께 D램도 80나노 이하 미세 공정을 적용한 제품의 생산 비중을 현재 40% 수준에서 연말까지 80%로 끌어올린다.

     51나노 공정에서 낸드플래시를 생산하면 60나노대에서 생산할 때보다 생산원가를 최대 40%까지 줄일 수 있다.

     삼성전자(대표 윤종용)는 지금까지 60나노대 공정에서 주로 생산해오던 낸드플래시를 현존 최미세공정인 51나노로 대폭 전환,....

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